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潔凈室凈化空調設計特點：

潔凈室的空調除了必須滿足產品需求的溫濕度條件外，對工作者的舒適度和空氣潔凈度等度均必須顧慮到，其他如能源消耗、防震及噪音控制也是考慮因素。

潔凈室的潔凈度的能否維持在要求之規范內，空調系統扮演了主要的角色，因而潔凈室的空調系統有著與一般空調系統的不同特征，分述如下：

1.溫濕度要求比一般空調低：一般空調系統溫度要求在25?~ 27℃間，相對濕度則在55~77%；而潔凈室空調分別為22~23℃及40~45%，50~60%。

2.對空氣質量要求較嚴格：一般空調除了溫濕度要求是比潔凈室空調較彈性外，在微塵粒子之過濾和Na離子之處理，潔凈室空調均必須加以考慮要求。

3.恒溫恒濕控制：由于制程產品制程對溫，濕度變化的大小極為敏感，故在潔凈室空調中部份區域須控制在±0.1℃和1~2%RH的范圍內。

4.全外氣量與換氣次數大：在半導體工廠中，制程系統須使用大量的化學品和毒氣，而這些化學品與氣體所產生的些揮發氣和廢氣必須予全數排除，故其排氣量相當大，尤其是在化學工作站更甚，加上為維持空氣之質量和安全，故半導體潔凈室空調系統一般均不回風，而全以外界新鮮空氣補R入系統中，故換氣次數相對增加，方能符合溫，濕度及潔凈度等級的需求。

5.空調系統24小時全天候運轉：半導體工廠，部份制程設備其對溫，濕度的要求相當敏感如步進曝光機等光學儀器，些微的溫，濕度變化均會造成設備的精準度偏差，另外芯片等產品也必須置放在定溫定濕的環境下，加上工廠均是24小時輪班作業，故空調系統也必須24小時甚至可說是全年無休(除了電力工司停電外)運轉，而一般空調則可視工作人員的上班狀況機動調整，因此半導體空調負荷為一般空調的4~5倍。

6.氣流分怖需均勻：潔凈室空調為帶走潔凈室內所產生的微塵粒子，以維持潔凈度，故除了氣流速度須達一定之要求標準外，氣流的形狀也必須依不同的潔凈室等級而加以適當的控制。

7.運轉成本相當高：由于潔凈室熱負荷相當大，又是全外氣供氣，循環風量亦甚可觀，故總加成之后的空調運轉費用也水漲船高。不只是初期設備的投資成本高，日后的運轉及維護費用也相當高，依據數據顯示，半導體廠，單位面積的耗電量為6”晶圓廠：約1.35 Kw/m2，而8”廠則高達約1.9 Kw/m2 。除了以上的特性外，潔凈室的空調須與鄰室維持適當的壓差：送風溫度與室內溫度差距小等亦均為其特性。

8.外氣需要量計算：潔凈室空調前已提及是以全外氣供應，而外氣需要量的多寡將受如下的因素所影響：(1)制程排氣量；(2)間隙外泄量；(3)開門外泄量；(4)健康要求量。即外氣需要量(Q1)≧制程設備排氣量(q1)+間隙外泄量(q2)+開門外泄量(q3)外氣需要量=排氣量+10%排氣量(泄漏量)+0.5%循環空氣量≒8~10%循環空氣量

9.空調箱(Air Handling Unit)之選擇：設計及選擇適當的空調箱及組合，將可收系統運轉的良好效果。圖為超潔凈用空調箱系統圖。

資料來源：www.textluoli.cn